（来源：半导体前沿）
-来自彤程，龙图光罩，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，欣奕华，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳等单位的专家将作精彩报告
-第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开
3月19日晚，鼎龙股份（300054.SZ）发布重磅公告：控股子公司鼎龙（潜江）新材料有限公司投资约8.04亿元建设的“年产300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目”主体厂房及配套设施已建成，并于近期顺利投产。该项目标志着国内首条覆盖“有机合成—高分子合成—精制纯化—光刻胶混配”全流程的高端晶圆光刻胶量产线正式落地，实现从核心单体、光酸、树脂到成品的全链条自主可控。
鼎龙股份表示，目前公司已布局超30款高端晶圆光刻胶产品，覆盖浸没式ArF与KrF等主流制程节点，广泛应用于3D NAND、DRAM和高性能逻辑器件。其中，过半数产品已送样主流晶圆厂验证，已有数款实现稳定批量供应，多款正全力冲刺订单。项目达产后，将显著提升产能保障能力，形成新的业绩增长引擎，进一步巩固公司在半导体材料领域的平台化布局。
这一突破直接回应了业内长期流传的“日本光刻胶企业抬抬腿，国产晶圆厂就要抖一抖”的尴尬局面。高端光刻胶作为半导体制造的“咽喉材料”，过去高度依赖日本JSR、信越化学、东京应化等巨头，国产化率不足10%。鼎龙的全流程产线投产，不仅打破了供应链“卡脖子”风险，更为国内晶圆厂提供了更安全、稳定的本土替代方案。
与此同时，其他国产光刻胶主力企业也在加速跟进，共同推动国产化从“验证通过”向“规模放量”跨越：
（300236.SZ）：在2025年报中透露，光刻胶业务销售收入同比增长30%以上。其中，ArF浸没式光刻胶已取得销售订单，项目持续开发验证中。公司已建成I线、KrF、ArF干法/浸没式完整平台，KrF多款产品实现批量销售，配套显影液等打破日本垄断。
（603650.SH）：ArF、KrF光刻胶、抗反射涂层（BARC）、边缘去除剂（EBR）等新产品系列，在2025年上半年陆续通过国内多家客户验证，并开始逐步切线上量。公司在显示光刻胶领域稳居本土第一、国内第二，半导体KrF产品已批量供货长江存储等头部客户。
（300655.SZ）：控股子公司苏州瑞红作为国内光刻胶先驱，已量产近百种紫外宽谱、g/i线系列产品。DUV高端领域，多款KrF光刻胶实现量产，ArF光刻胶小批量出货，多款产品送样验证中。
2025年上半年，i-Line光刻胶销售收入624.44万元（同比+133.70%），KrF光刻胶1,235.52万元（同比+134.64%），ArF光刻胶49.58万元，已超过去年全年水平。
（300346.SZ）：ArF光刻胶现有产能50吨/年，已实现量产并通过中芯国际、长江存储等验证，营收破千万并持续放量，未进一步扩产。
下游晶圆厂的持续突破（如中芯国际、长江存储、华虹等成熟/先进制程扩产）为国产光刻胶提供了宝贵试用机会，反过来加速材料验证与放量，形成正向循环。2026年，随着鼎龙、上海新阳、彤程等多家企业产能爬坡与订单落地，国产KrF/ArF光刻胶有望迎来“爆发元年”，国产化率加速突破30-40%。
在全球供应链不确定性加剧的背景下，这些进展不仅是技术突破，更是国家半导体自主可控的战略里程碑。关注鼎龙股份、南大光电、彤程新材、上海新阳、晶瑞电材等核心标的最新公告与季报，将是把握国产光刻胶投资机遇的关键。
来源：官方媒体/网络新闻
—论坛信息—
名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛
时间：2026年4月24日
地点：上海
主办方：亚化咨询
—会议背景—
随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。
进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。
全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。
第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。