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拉普拉斯(688726)
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2025-12-19 19:59
富森美投资版图再添成功案例 天数智芯通过港交所聆讯
2025-12-19 19:57
拉普拉斯:目前公司已有布局的钙钛矿电池相关设备包括PVD、ALD、涂布等核心工艺设备
2025-12-19 18:35
拉普拉斯:公司生产经营活动正常有序,在手订单储备与客户需求节奏相匹配
2025-12-14 20:44
富森美押中宏明电子IPO成功过会 近五年投资收益达4.39亿元
2025-12-12 18:27
拉普拉斯:42.69%公司股份将于12月22日上市流通
2025-12-09 12:46
拉普拉斯取得反应炉以及加工设备专利,可减少片状材料飘片情况
2025-12-09 12:27
拉普拉斯半导体取得晶片承载机构及外延装置专利,提升晶片反应时的稳定性
2025-12-09 11:16
拉普拉斯半导体取得半片硅片搬运装置、片材加工系统及生产线专利,能够满足将被切割的多个半片硅片同时搬运的需求
2025-12-08 21:06
拉普拉斯半导体取得磁流体密封装置及外延设备专利,可降低旋转轴及磁流腔体内磁流体的温度以保证正常运行
2025-12-08 20:56
拉普拉斯取得淋头机构及外延设备专利,降低反应气体提前反应的概率
2025-12-08 19:27
拉普拉斯半导体取得散热组件、磁流体密封机构及外延系统专利,降低旋转轴及磁流体密封机构温度
2025-12-08 08:02
拉普拉斯(688726)136.42万股限售股将于12月8日解禁,占总股本0.34%
2025-12-05 21:06
拉普拉斯无锡半导体取得上下料装置和镀膜设备专利,提高了上下料装置的上下料效率
2025-12-05 19:46
拉普拉斯取得片材取放机构和片材上下料系统专利,能够方便快速地取放承载机构上被限位的片材
2025-12-05 18:36
拉普拉斯无锡半导体取得输送机构和翻转装置专利,提高输送机构的输送效率
2025-12-05 16:45
效率与价值双驱 BC技术引领光伏产业迈入高质量发展新周期
2025-12-05 12:18
爱旭股份:如何才能做到在海外不卷价格、卷价值?
2025-12-04 16:14
从价格到价值:光伏产业正在“换赛道”
2025-12-04 15:46
拉普拉斯取得片材取放机构和片材上下料系统专利,提高上下料速率
2025-12-03 19:06
拉普拉斯新能源申请太阳能电池及其制备方法、光伏组件专利,实现第一掺杂层和第二掺杂层的接触连接
2025-12-03 10:15
拉普拉斯半导体申请晶片匣载具、晶片匣装载机构及半导体工艺设备专利,降低晶片损坏的可能性
2025-12-02 14:46
拉普拉斯(无锡)半导体取得翻转装置和输送设备专利,输送效率高
2025-12-02 14:36
拉普拉斯取得沉积设备的监控系统和沉积设备专利,提高沉积设备监控系统运行稳定性
2025-12-02 10:26
拉普拉斯取得电极组件和反应炉专利,降低了第一电极杆组件变形打弧和断裂的概率
2025-12-01 21:06
拉普拉斯新能源取得舟片和舟结构专利,提高片材表面膜层厚度均匀性
2025-12-01 20:36
拉普拉斯取得阻挡结构以及加工设备专利,可弥补反应腔内匀流结构缺口对工艺气体均匀性的影响
2025-12-01 19:36
拉普拉斯取得炉门组件和反应炉专利,能够将内腔和外腔分隔密封
2025-12-01 12:16
拉普拉斯新能源取得降温装置及加工设备专利,能通过冷却液吸收抽气管路中气体的热量
2025-12-01 11:26
拉普拉斯取得承载装置及加工设备专利,可用于高温作业场景
2025-11-29 23:25
拉普拉斯获得实用新型专利授权:“调整组件以及加工设备”
2025-11-29 02:56
拉普拉斯新能源科技股份有限公司首次公开发行部分限售股上市流通公告
2025-11-28 23:40
拉普拉斯136.42万限售股将于12月8日解禁 占总股本0.3366%
2025-11-28 21:36
拉普拉斯收盘上涨1.01%,滚动市盈率23.00倍,总市值170.48亿元
2025-11-28 20:26
拉普拉斯:首次公开发行部分限售股上市流通公告
2025-11-28 17:43
拉普拉斯136万限售股12月8日上市流通
2025-11-28 09:06
拉普拉斯取得张紧装置及加工设备专利,改善片状材料的加工效果
2025-11-27 16:46
拉普拉斯取得炉门组件和反应炉专利,提升密封稳定性
2025-11-27 16:46
拉普拉斯取得降温装置及加工设备专利,可对抽气管路中的气体进行冷却
2025-11-26 20:36
拉普拉斯半导体取得承载装置及加工设备专利,可以用于高温作业场景
2025-11-26 20:36
拉普拉斯取得阻挡结构以及加工设备专利,弥补反应腔内的匀流结构的缺口对工艺气体均匀性的影响
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