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国家知识产权局信息显示，上海至纯洁净系统科技股份有限公司、至微半导体（上海）有限公司取得一项名为“一种有效达成高温化学蚀刻反应的晶圆清洗蚀刻系统”的专利，授权公告号CN 114420594 B，申请日期为2021年12月。

天眼查资料显示，上海至纯洁净系统科技股份有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本38671.777万人民币。通过天眼查大数据分析，上海至纯洁净系统科技股份有限公司共对外投资了46家企业，参与招投标项目76次，财产线索方面有商标信息73条，专利信息332条，此外企业还拥有行政许可43个。

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