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至纯科技:半导体湿法设备聚焦晶圆制造前道工艺,覆盖逻辑电路等多个细分领域

时间:2025年12月02日 17:57

本文源自:市场资讯

有投资者在互动平台向至纯科技提问:“你好,贵司半导体湿法设备是否已经批量出货给国产HBM厂商?”

针对上述提问,至纯科技回应称:“您好,公司半导体湿法设备聚焦晶圆制造的前道工艺,主要应用于扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积等关键工序段前后,能够覆盖晶圆制造中包括逻辑电路、高密度存储、化合物半导体特色工艺等多个细分领域的市场需求。”

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

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